通城，智云微电子旗下第三十二厂。

    徐申学在时隔几个月后再一次来到这个先进工厂，他这一次过来，除了视察S1203芯片等采用先进N4或N5工艺的芯片生产情况外，也是为了查看N3工艺，即等效三纳米工艺的研发进度。

    尽管已经来过几次了，但是再一次来到这个先进的半导体工厂，徐申学依旧会为这个工厂而感到震撼！

    这家工厂，可以说每个角落都带着一种未来科幻感的工业美感，同时每一个角落都透着金钱的味道……智云集团已经为这家工厂累计投入了超过两百五十亿美元，用于前期的建设，后期的扩张以及升级。

    其第一期工厂，也就是为了满足每月五万片的等效五纳米工艺生产，智云集团之前就已经砸下去了两百亿美元的巨额投资。

    随后为了让这家工厂具备的等效三纳米工艺的生产，又增加了大概五十亿美元的投资进行技术升级。

    如此巨大的投资，让这家工厂也成为了目前全球范围内，技术最先进，也是规模最大，产能最大的五纳米工艺工厂，并且也是目前唯一一家能够进行等效三纳米工艺生产的工厂……嗯，目前只是在硬件设施上足以满足等效三纳米工艺的生产需求。

    但是工厂的硬件设备能达到要求，并不意味着现在就能够生产等效三纳米工艺的芯片。

    人家中芯半导体采购也采购了HEUV-300B型以及300C型光刻机，但是现在连七纳米工艺都搞不出来……四星以及英特尔他们也采购了荷兰ASML同级别的EUV光刻机，但是在技术上依旧跟不上智云微电子，甚至都还不如台积电呢。

    先进芯片这东西，没有相应的设备是肯定做不出来，但是有了设备也不一定能够做的出来。

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    智云微电子第三十二厂，这是目前智云微电子旗下技术最先进的逻辑芯片工厂，部署了大量当下最顶级的各类半导体设备，光刻机，蚀刻机等数百种设备，全都是当下最顶级的。

    要么是属于全球超一流的技术水平，要么就是属于全球一流的技术水平。

    在这家工厂里，根本找不到全球二流水平的设备……因为二流设备的水平，也不足以满足等效五纳米工艺的生产。

    其中最为核心，也是最昂贵，同时也是技术最先进的EUV光刻机了！

    HEUV-300C光刻机，拥有一点五纳米的套刻精度，这个精度足以让这款光刻机在单次曝光的情况下，就能够满足等效七纳米乃至等效五纳米工艺的量产，并且每小时的产能能够达到一百八十片，其生产效率大幅度优于上一代的HEUV-300B型光刻机。

    目前这款光刻机是属于目前人类最顶级的量产型光刻机之一……之所以说是之一，那是因为荷兰ASML也拥有同级别的光刻机。

    但是这两款光刻机镜片技术上有巨大的差异，海湾科技在EUV光刻机上采用的是双面反射透镜，其特征就是大幅度减少极紫外光的吸收，大幅度增加了极紫外光能量利用率，进而大幅度减少功耗，而且也降低了对光源的功率技术要求。

    因为物理极限以及目前的材料学水平，极紫外光每次被镜片反射的时候，都会被吸收大约百分之三十左右的能量，因此反射镜用的越少，极紫外光的能量利用率就越高。

    海湾科技用的双面反射镜系统，对比荷兰ASML的六面反射镜系统，物镜系统工程难度更低，光源系统技术难度更低，制造成本也低一些，维护也更容易，然后还有个最明显的特征，那就是耗电量更低，大概只有百分之十左右。

    当然，对于对于先进工艺的芯片生产成本而言，电费成本占比不高。

    先进工艺芯片的成本，其大头是半导体工厂的巨大投资成本的折旧成本，一座五纳米半导体工厂动不动上百亿美元的投资，而这些成本都需要在短短几年里进行折旧的，平摊到每一年的折旧成本就非常夸张了。

    然后是大量的半导体耗材成本，如硅晶圆，光刻胶，特殊气体等原料也不便宜。

    再过来则是电费成本，半导体工厂的耗电量很大的，各种设备都是电老虎，因此电费成本也不算低，智云微电子集团光是每年交电费都是个非常庞大的数字。

    最后才是人工成本，这个比例很低……半导体的先进工艺里谈论人力成本其实没有什么实际意义的，因为占比太低了。

    因为半导体工厂耗电量比较高，而耗电大头就是EUV光刻机，因此能够降低EUV的耗电量也是比较重要的……这一点上海湾科技的EUV光刻机拥有比较大的能耗优势。

    只是这点优势放在整个先进工艺的生产成本里，其实也不算什么太大的优势就是了……因为电费成本并不是先进工艺的主要成本，占比也很低的。

    海湾科技的EUV光刻机和ASML的EUV光刻机，看似性能差不多，原理也一样，但是具体技术路线其实有着比较大的差异。

    而且荷兰ASML的同级别光刻机是属于

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