需要通过四重曝光技术来研发等效7纳米工艺的芯片了……而这一技术的制造成本更高。

    所以从芯片的制造成本来看，尤其是使用DUV浸润式光刻机的情况下，采用双重曝光技术，生产14纳米工艺的芯片才是最划算的，这也包括智云12纳米工艺，毕竟智云的十二纳米工艺其实就是他们自己的第二代十四纳米工艺。

    使用十纳米工艺的话，虽然芯片性能提升了一些，但是成本提升了很多，如果不是S系列手机这种奔着极限去，各种追求领先的产品，其实都没必要采用智云等效十纳米工艺的芯片。

    这也是智云半导体的一大堆各种芯片设计里，基本都是围绕着十四纳米工艺以及十二纳米工艺展开的缘故。

    至于十纳米工艺的芯片，目前就只有两种，一种是S系列手机使用的S806芯片，另外一种则是用于各种车辆以及无人机平台的算力芯片EYQ4。

    其他的，包括AI训练芯片，暂时都不会采用这个十纳米工艺……划不来。

    目前乃至未来两年内，智云集团这边新生产或设计的AI训练芯片，包括自用的AI系列，都会采用第二代十四纳米工艺，也就是智云宣传的十二纳米工艺制造。

    其他各类芯片，电脑CPU，服务器CPU，各类显卡等等也将会采用十二纳米工艺制造。

    同时还有一大堆已经设计生产的芯片用的是第一代十四纳米工艺。

    至于十八纳米工艺的一些产品，则是已经陆续停产，该工艺也是属于过度工艺，性价比太低了。

    未来好几年内，智云集团的各类芯片，不管自用还是外销，都会采用十四纳米工艺为主，当然，这个十四纳米工艺可能会有很多种，包括第一代十四纳米工艺，第二代十四纳米工艺（十二纳米），然后还有其他的一些变种工艺，以满足不同类型的芯片的需求。

    至于更先进，但是性价比太低的十纳米工艺，注定只是个过渡工艺。

    智云集团的一些先进芯片，如AI训练芯片，手机SOC芯片，机载算力卡这些对工艺要求高，对算力要求高的芯片，则是都把目光面瞄向了更好的等效七纳米工艺……虽然那玩意的成本会更高，但是带来的性能提升也足够大，所以咬咬牙也能用。

    这就是没有EUV光刻机的尴尬了。

    如果有EUV光刻机的话，等效七纳米芯片的成本就能拉下来，同样的，等效十纳米工艺其实用EUV光刻机来生产也更方便，成本更低。

    可惜，智云集团一时半会还得不到EUV光刻机。

    但是庆幸的是，台积电，英特尔，四星等半导体厂商也无法得到EUV光刻机……荷兰的ASML在今年十一月份的时候，就已经正式对外宣布：受到多个子系统研发进度缓慢的影响，预定明年交货的量产型EUV光刻机，也就是可以用来进行大规模量产芯片的EUV光刻机将会进一步推迟。

    他们给出的初步计划是在18年推出量产型的EUV光刻机。

    但实际上，这个时间表那只是一切顺利的情况下。

    而实际上不可能顺利的，智云集团那边睁着大眼睛盯着ASML那边呢……但凡有点什么进展，立马各种车祸就来了，供应链那边就会出现问题了。

    虽然没有任何证据，也没有任何公开报道，但是该知道的人都知道是智云那群人干的。

    所以ASML那边其实早早就摆烂了，EUV项目组只是维持在一个低水平推进的状态……反正卖浸润式DUV光刻机也很赚钱。

    至于EUV光刻机，拖着呗。

    至于什么时候大规模启动EUV项目，进入量产型号的投产模式，那要等那些大财团们打完架再说。

    不管是分出胜负也好，达成协议也罢，总之在出现结果之前他们ASML是不会参与其中的。

    不然的话，就会出现大佬们打架，死的却是ASML工程师这种非常尴尬的情况。

    而徐申学手底下的海湾科技的EUV光刻机进度也没那么快，怎么也得好几年才能成熟应用。

    所以在这个时代里，一票晶圆厂们，包括智云微电子，台积电等在内，只能苦哈哈的继续使用DUV浸润式光刻机推进工艺，搞十纳米，搞等效七纳米。

    甚至这两家都还在琢磨着用DUV浸润式光刻机搞等效五纳米的芯片……这种工艺光是听上去就知道良率会低到非常惊人的程度，成本也会非常高。

    但是没有EUV光刻机也没办法，只能这么硬着头皮继续搞。

    从光刻机到晶圆厂，再到芯片设计，整个S17手机里里外外都透着顶级工业产品的气息。

    这样的顶级产品，别说换个国家了，就算是同样在国内换个企业，那都是搞不出来的……没那技术。

    而这也是智云集团的S系列手机能卖遍全球，获得全球绝大部分消费者认可的核心原因。

    虽然也有其他乱七八糟的因素，但是核心理由就一个，智云S系列手机那是真的牛逼！

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